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PECS II 精密离子刻蚀与镀膜系统

PECS II 精密离子刻蚀与镀膜系统

利用宽幅氩离子束对样品进行抛光和镀膜处理,从而得到高质量的SEM 成像和分析结果

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利用宽幅氩离子束对样品进行抛光和镀膜处理,从而得到高质量的SEM 成像和分析结果

优点: 

全自动氩离子抛光系统适合用于制备 SEM 样品,可以得到无损的表面、横截面和镀层,以?;ぱ坊蚩朔堑嫉缪返暮傻缥侍?。

  • 只需一次抽真空,就可现实对样品的抛光、刻蚀或镀膜
  • 在低至 100 伏的电压下刻蚀,从而快速地得到无损样品表面 
  • 可制备直径高达 32 毫米的样品
  • 在不暴露于空气的情况下,将样品从 PECS? II 仪器转移到 SEM/FIB 或手套箱中(可?。?
  • 利用 Gatan 的 DigitalMicrograph? 软件存储和分析图像,数字光学成像
  • 集成的 10 英寸彩色触摸屏显示和控制所有 PECS II 参数
产品中心
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